高嶺土插層效果表征影響因素 高嶺土加工設(shè)備及其工藝流程

結(jié)合性指高嶺土與非塑性原料相結(jié)合形成可塑性泥團(tuán)并具有一定干燥強(qiáng)度的性能。結(jié)合能力的測定，是在高嶺土中加入標(biāo)準(zhǔn)石英砂（其質(zhì)量組成0.25—0.15粒級占70%，0.15—0.09mm粒級占30%）。以其仍能保持可塑泥團(tuán)時(shí)的最高含砂量及干燥后的抗折強(qiáng)度來判斷其高低，摻入的砂越多，則說明這種高嶺土結(jié)合能力就越強(qiáng)。通常凡可塑性強(qiáng)的高嶺土結(jié)合能力也強(qiáng)。

紅外光譜(IR):紅外光譜可以準(zhǔn)確地記錄高嶺石中-OH伸縮振動(dòng)峰的位置、形狀、強(qiáng)度及其變化。羥基的伸縮振動(dòng)是羥基外部環(huán)境的靈敏指示劑。在高嶺石的紅外光譜的高頻區(qū)域(3000〜4000cm-1)，存在四個(gè)伸縮振動(dòng)峰，它們分別位于3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1和3620cm-1，其中3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1,這三個(gè)峰屬于高嶺石層間表面的羥基(稱為內(nèi)表面羥基)振動(dòng)峰，當(dāng)羥基的外部環(huán)境受到擾動(dòng)時(shí)，-OH伸縮振動(dòng)峰的位置、形狀及強(qiáng)度等會發(fā)生相應(yīng)的變化。高嶺石的內(nèi)羥基位于硅氧四面體和鋁氧八面體之間，其峰值位于3620.5cm-1。由于內(nèi)羥基不可能與插入的客體分子接觸，因此，內(nèi)羥基的伸縮振動(dòng)峰不會由于插入反應(yīng)而發(fā)生變化，而位于高嶺石層間表面的羥基，即內(nèi)表面羥基則較容易受到插入分子的影響。當(dāng)不同的有機(jī)分子插入高嶺石層間時(shí)，由于對高嶺石內(nèi)表面羥基的影響不同，其內(nèi)表面羥基的伸縮振動(dòng)峰也發(fā)生不同的變化。而內(nèi)羥基則不發(fā)生相應(yīng)的變化。因此，在比較有機(jī)分子插入高嶺石層間導(dǎo)致羥基振動(dòng)峰強(qiáng)度的變化時(shí)，通常是以3620cm-1峰的強(qiáng)度為標(biāo)準(zhǔn)。

水合肼、脲、二甲基亞砜、甲酰胺、二甲基甲酰胺、乙酰胺、乙酸鉀等有機(jī)分子插入高嶺石層間，都會對高嶺石的內(nèi)表面羥基產(chǎn)生一定的影響。但由于它們與高嶺石內(nèi)表面羥基發(fā)生作用的官能團(tuán)不一樣，因而對高嶺石以及高嶺土生產(chǎn)線內(nèi)表面羥基紅外光譜產(chǎn)生的影響也不一樣。例如，甲酰胺、乙酰胺等分子不僅可以作為質(zhì)子接受體，接受內(nèi)表面羥基給出的質(zhì)子，而形成氫鍵，而且還可以作為質(zhì)子給予體，給出質(zhì)子，與四面體片上的氧原子形成氫鍵。

張生輝等(2006)利用熔融狀態(tài)下乙酰胺對高嶺石進(jìn)行插層，制備了高嶺石/乙酰胺插層復(fù)合物。紅外分析表明，插層作用使得高嶺石內(nèi)表面羥基伸縮振動(dòng)峰由3651cm-1移動(dòng)至3647cm-1處，變形振動(dòng)峰由911cm-1移動(dòng)至907cm-1處;乙酰胺3211cm-1和3390cm-1處―NH2基伸縮振動(dòng)峰消失，并且在3478cm-1處產(chǎn)生一個(gè)新的振動(dòng)峰，這些表明原高嶺石層間氫鍵的損失及與乙酰胺分子之間氫鍵的形成。高嶺石內(nèi)羥基的吸收峰由3616cm-1移動(dòng)至3611cm-1處，以及其硅氧面的骨架振動(dòng)峰變化表明乙酰胺的甲基中CH嵌入高嶺石的復(fù)三方空穴中。

對于煤系高嶺土煅燒前的研磨和天然高嶺石煅燒后的加工山東埃爾派粉體科技有限公司采用國際標(biāo)準(zhǔn)配置的球磨機(jī)+分級機(jī)系統(tǒng)。根據(jù)用戶的要求，采用不同類型的分級機(jī)和分級技術(shù)，通過分級機(jī)的調(diào)節(jié)，使產(chǎn)品和粒度分布不僅滿足用戶的現(xiàn)時(shí)需要，而且滿足不斷增長的未來需求。

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